屏蔽机房效果的影响因素分析

当影响电磁屏蔽机房屏蔽数据效果的因素频率较高时，吸收损失是主要的屏蔽机理，与辐射源是电场还是磁场关系不大。当频率较低时，吸收损耗很小，反射损耗是屏蔽效率的主要机理，应尽量提高反射损耗。

电场波较易屏蔽，平面波次之，磁场波较难屏蔽，尤其是低频磁场(1KHz以下)，较难屏蔽。对于低频磁场，应采用高导磁率数据进行屏蔽。有几个条件会影响屏蔽数据的效果，甚至高导电性数据和高导磁性数据的结合。

导电性和导磁性数据越好，屏蔽效率越高，但金属数据在实际应用中不能考虑这两个方面，例如铜的导电性很好，但导磁性很差;铁的导磁性好，但导电性差。在详细屏蔽的基础上，应该使用什么信息，主要取决于反射损失还是吸收损失来决定是侧重于导电性还是导磁性。

反射损耗与屏蔽层与辐射源之间的距离有关。对于电场辐射源，距离越近，反射损耗越大;对于磁辐射源，距离越近，反射损耗越小。正确辨别辐射源的性质，确定辐射源应靠近屏蔽层是结构设计的重要内容，屏蔽层仍是屏蔽层的主体。